【摘 要】
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光诱导化学汽相淀(?)(LCVD)技术是一种新的低温化薄膜制备技术.本文首先评述了LCVD技术的特点、原理和装置,然后着重讨论了利用这种技术制备金属、半导体与化合物和介质薄膜
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光诱导化学汽相淀(?)(LCVD)技术是一种新的低温化薄膜制备技术.本文首先评述了LCVD技术的特点、原理和装置,然后着重讨论了利用这种技术制备金属、半导体与化合物和介质薄膜以及一些淀积规律,最后指出了LCVD技术尚待解决的若干问题.
Photoinduced chemical vapor deposition (?) (LCVD) is a new technique for the preparation of low temperature thin films.Firstly, this paper reviews the characteristics, principles and devices of LCVD technology, and then focuses on the use of this technology to prepare metals, semiconductors and Compound and dielectric thin films and some deposition rules, finally pointed out some problems that LCVD technology has yet to solve.
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