特低阈值电流密度(414安培/厘米~2)的GaAlAs双异质结激光器

来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户:king943
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本所GaAlAs双异质结激光组,今年以来采用近平衡态液相外延生长技术,制出了大批12×8毫米平方整面光亮的片子。这些片子是在GaAs(100)面衬底上生长四层:第一层是掺Te的n型Ga_(1-x)Al_xA_s限制层,约4微米厚,第二层是掺Si的P型Ga_(1-y)Al_yA_s有源 Our GaAlAs double heterojunction laser group, this year using near-equilibrium liquid-phase epitaxial growth technology, produced a large number of 12 × 8 mm square full bright film. These films were grown on a GaAs (100) facet substrate with four layers: the first is a Te-doped n-type Ga 1-x Al x A_s confinement layer about 4 μm thick and the second is a p-type Ga- (1-y) Al_yA_s active
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