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对超冶金级硅进行不同条件下的热退火实验研究。利用金相显微镜、电子背散射衍射和X射线衍射仪分别对退火前后多晶硅不同部位的位错、晶界和择优生长取向进行表征。结果表明:退火前后多晶硅中的位错密度大小分布顺序始终是中部<底部<顶部。随着退火温度的升高,位错密度逐渐减小;小角度晶界不断减少,直至消失;CSL晶界比例先增加后减小。在1200℃下退火3h后,多晶硅中的孪晶晶界∑3达到28%;多晶硅上、中、下部的晶粒分别获得最佳择优生长取向,这将对后续硅材料的加工及多晶硅太阳能电池转化效率的提高起到促进作用。
The experimental study of thermal annealing under different conditions for the super metallurgical grade silicon. The dislocations, grain boundaries and preferred growth orientation of different regions of polysilicon before and after annealing were characterized by optical microscope, electron backscatter diffraction and X-ray diffraction. The results show that the distribution order of the dislocation density in polycrystalline silicon before and after annealing is always in the middle
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