In（Ⅱ）—NCP体系配位吸附波研究及应用

• 作 者: 周长利 罗川南 卢燕 李慧芝
• 机 构: 济南大学应化系
• 出 处: 分析科学学报
• 发表日期: 2003年2期
• 关键词: NCP 配位吸附波 2 9-二甲基邻菲咯啉 配合物 氢氧化铝 陶瓷颜料 铟 分析 Indium Neocuproine Complex adsorption w

在0.15 mol/L HAc-NaAc(pH 3.2)介质中,In(Ⅲ)-NCP(2,9-二甲基邻菲咯啉)配合物在2.5次微分极谱图上产生良好的吸附还原波.其峰电位为-0.40 V,峰电流与In(Ⅲ)浓度在4.0×10-8～2.0×10-6 mol/L范围内呈良好的线性关系,检出限为8.0×10-9 mol/L.应用该法测定了氢氧化铝和陶瓷颜料中的微量铟,结果满意.研究了配合物的组成、极谱波的性质及其机理.