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2年试验结果表明,保护地黄瓜叶片净光合速率的变化范围在9～22μmolCO_2m~(-2)s~(-1)之间。光合作用的最适温度为25～33℃;光合作用的温度下限为3～6℃;上限为42～44℃。黄瓜叶片光合作用对温度的反应受生长期间温度条件的影响,昼温为36℃下生长的叶片比28℃下生长的叶片表现为较高的耐高温特性。完全展开10天以内的叶片不仅光合速率高,对温度变化的反应也敏感;衰老(完全展开20天后)的叶片不仅光合速率低,对温度变化的反应也不敏感。 在低温条件下,黄瓜叶片的呼吸作用以及光合作用的光补偿点和光