【摘 要】
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刻蚀速率是离子束刻蚀技术的一个重要指标。利用探针式表面轮廓分析仪测量研究了铁钴合金薄膜在不同氩离子入射角度下的刻蚀速率。实验结果发现,随着氩离子束入射角度变大,铁
【机 构】
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兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室/物理科学与技术学院
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刻蚀速率是离子束刻蚀技术的一个重要指标。利用探针式表面轮廓分析仪测量研究了铁钴合金薄膜在不同氩离子入射角度下的刻蚀速率。实验结果发现,随着氩离子束入射角度变大,铁钴合金薄膜的刻蚀速率逐渐变大。当氩离子束入射角度为40°时,刻蚀速率达到最大值（42 nm/min）。随着氩离子束入射角度进一步增大到80°,刻蚀速率迅速降低到极小值。
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