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用MCVD（改进的化学气相沉积）工艺,以氟里昂（CCl2F2）为掺氟源制备了掺氟石英光纤包层。讨论了氟进入玻璃网络形成[SiO3F]状态的化学反应以及氟里昂通入量与石英玻璃中氟含量的关系。
氟对降低石英光纤包层折射率的作用
【摘 要】
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用MCVD（改进的化学气相沉积）工艺,以氟里昂（CCl2F2）为掺氟源制备了掺氟石英光纤包层。讨论了氟进入玻璃网络形成[SiO3F]状态的化学反应以及氟里昂通入量与石英玻璃中氟含量的关系
【机 构】
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中国建材研究院; 中国建材研究院;
【出 处】
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中国建材科技
【发表日期】
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1993年02期
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