一种图案化镍/硅纳米复合体系的制备

• 作 者: 张焕云 姜卫粉 李新建
• 机 构: 郑州大学物理系、材料物理教育部重点实验室
• 出 处: 科学技术与工程
• 发表日期: 2007年12期
• 关键词: 硅纳米孔柱阵列(Si-NPA) Ni/Si-NPA 浸渍沉积 silicon nanoporous pillar array （Si-NPA） Ni/Si-

以水热制备的具有规则表面形貌和结构的硅纳米孔柱阵列（Silicon Nanoporous Pillar Array,Si-NPA）为衬底,采用浸渍沉积技术并通过调控溶液中Ni2＋的浓度,制备了表面具有不同图案化结构的镍/硅纳米孔柱阵列复合体系。分析表明,Ni^2＋浓度对Ni/Si-NPA表面形貌和结构有很大的影响：高的Ni^2＋浓度下制备的Ni/Si-NPA能够保持Si-NPA衬底的规则阵列结构特征;而低的Ni^2＋浓度下制备的Ni/Si-NPA其衬底规则的阵列结构几乎完全被破坏。优化了制备具有图案化结构