Effects of growth temperature on μc-Si:H films prepared by plasma assistant magnetron sputtering

来源 :稀有金属：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：glorfinde

【摘要】

：

Hydrogenated microcrystalline silicon thin films (μc-Si:H) were deposited by plasma assistant magnetron sputtering in Ar-H2 gas mixture. The effects of growth

【作者】

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Su Yuanjun Dond Chuang Zhu

【机构】

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KeyLaboratoryofMaterialsModificationbyLaser,NissinElectric-DalianUniversityofTechnologyJointR&,DC

【出处】

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稀有金属：英文版

【发表日期】

：

2012年2期

【基金项目】

：

supported by the Cultivation Fund of the Key Scientific and Technical Innovation Project, Ministry of Education of China (No. 707015),,University Innovative Research Team Project of Liaoning Province

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Hydrogenated microcrystalline silicon thin films (μc-Si:H) were deposited by plasma assistant magnetron sputtering in Ar-H2 gas mixture. The effects of growth temperature from 150 to 450 ℃ on properties of deposited Si films were investigated at two diffe

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