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<正> 1 前言 最近,利用MeV级高能离子注入直接向半导体衬底的深部掺杂的技术已经在实际中应用。在提高注入的均匀性和缩短热处理周期方面都超过了以往离子注入的水平,为器件的制作带来了新的手段。高能离子注入在LSI工艺的以下几个方面开始获得应用:注入剂量为
高能离子注入技术的应用
【摘 要】
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<正> 1 前言 最近,利用MeV级高能离子注入直接向半导体衬底的深部掺杂的技术已经在实际中应用。在提高注入的均匀性和缩短热处理周期方面都超过了以往离子注入的水平,为器件
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1992年4期
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笔者首先分析了高中数学分析问题能力的几个方面，即审题能力，合理应用知识、思想、方法解决问题的能力，数学建模能力。然后从四个方面探索了培养和提高分析和解决问题能力的策略