【摘 要】
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针对磁控溅射固有磁场强度随时间衰减的问题,采用外加磁场增强真空室内等离子密度的方法,在AZ31基体上反应溅射沉积了厚度约2μm的TiSiN薄膜。应用XRD、SEM研究了等离子体增
【基金项目】
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内蒙古自治区教育厅项目(NJZY18314)
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针对磁控溅射固有磁场强度随时间衰减的问题,采用外加磁场增强真空室内等离子密度的方法,在AZ31基体上反应溅射沉积了厚度约2μm的TiSiN薄膜。应用XRD、SEM研究了等离子体增强的磁控溅射方法所制备薄膜的物相组成、结构、表面形貌,利用电化学工作站研究了等离子体增强的磁控溅射薄膜在3.5%NaCl溶液中的腐蚀行为,并与未增强等离子体制备的薄膜做了对比。结果表明:等离子体增强后,薄膜的择优取向发生改变,薄膜致密度更高,薄膜表面粗糙度、缺陷以及晶粒尺寸有所减小,且薄膜在NaCl溶液中的抗腐蚀能力更好,等离子体
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