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本文报道了盐酸羟胺-CTMAB-Cu(Ⅱ)新的化学发光体系,建立了测定痕量Cu的新方法,检测限5.6ppb,方法简便,试剂易得,重现性和选择性均较好。
用盐酸羟胺化学发光新体系测定痕量铜
【摘 要】
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本文报道了盐酸羟胺-CTMAB-Cu(Ⅱ)新的化学发光体系,建立了测定痕量Cu的新方法,检测限5.6ppb,方法简便,试剂易得,重现性和选择性均较好。
【机 构】
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福州大学化学系,福州大学化学系福州,350002,福州
【出 处】
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分析化学
【发表日期】
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1991年9期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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