Raman测量Ge/Si多层膜中Ge晶粒尺寸的理论研究

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研究了用磁控溅射方法制备的Gex/Si1-x多层膜的Ge拉曼光谱,在分析了多层膜中Ge微晶的分布和采用微晶壳层 结构假设的条件下,考虑了微晶表面效应的影响,用声子限域模型计算了Ge纳米晶粒的拉曼谱线,拉曼拟合谱线为三条理论谱线的叠加。计算结果表明:在考虑了微晶的表面效应后,拟合结果与实验结果符合得很好。
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