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高铝AlxGa1-xAs氧化层对垂直腔面发射激光器的影响
高铝AlxGa1-xAs氧化层对垂直腔面发射激光器的影响
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:catx
【摘 要】
:
针对可见光垂直腔面发射激光器的制备,通过湿氮氧化实验和测量微区光致发光谱分别研究了高铝组分AlxGa1-xAs的氧化特性及氧化产物的收缩应力对有源区的影响,结合器件结构设计确
【作 者】
:
康香宁
宋国峰
叶晓军
侯识华
陈良惠
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程中心
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2004年5期
【关键词】
:
AlxGa1-xAs湿氮选择氧化
微区光致发光谱
垂直腔面发射激光器
Alx Ga 1-xAs wet oxidation
micro photolumines
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针对可见光垂直腔面发射激光器的制备,通过湿氮氧化实验和测量微区光致发光谱分别研究了高铝组分AlxGa1-xAs的氧化特性及氧化产物的收缩应力对有源区的影响,结合器件结构设计确定了氧化限制层AlxGa1-xAs的铝组分和最佳位置,并制备出了低阈值电流的AlGaInP系垂直腔面发射激光器。
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