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对１５Ｍｏｌ％复合添加剂自韧Ｓｉ３Ｎ４的氧化行为进行了研究。结果表明，在１３００－１３５０℃的温度范围内自韧Ｓｉ３Ｎ４的氧化符合抛物线氧化规律，根据实验结果计算出该温度下材料的活化能为８１７ＫＪ／Ｍｏｌ。氧化过程主要由晶界处添加剂离子和杂质离子的扩散过程控制。简要地分析了氧化后性能变化的原因。
Y,La氧化物添加剂自韧Si3N4的氧化行为及氧化对性能的影响
【摘 要】
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对１５Ｍｏｌ％复合添加剂自韧Ｓｉ３Ｎ４的氧化行为进行了研究。结果表明，在１３００－１３５０℃的温度范围内自韧Ｓｉ３Ｎ４的氧化符合抛物线氧化规律，根据实验结果计算出该温度下材料的活化能为８１７ＫＪ／Ｍｏｌ。氧化过程主要由晶界处添加剂离
【机 构】
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西北工业大学复合材料中心先进陶瓷材料研究室
【出 处】
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高技术通讯
【发表日期】
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1995年3期
【基金项目】
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国家“八五”预研项目
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