【摘 要】
：
一、引言 众所周知,电子束曝光机中的光闸是用来控制图形是否需要曝光的。但是从我们的研究中已明确认识和理解到光闸除上述基本功能外,至少还有以下两个功能可供我们利用:
论文部分内容阅读
一、引言 众所周知,电子束曝光机中的光闸是用来控制图形是否需要曝光的。但是从我们的研究中已明确认识和理解到光闸除上述基本功能外,至少还有以下两个功能可供我们利用:第一,利用光闸作为斩波器,就可以构成一个简单、实用且性能很好的微束流测量仪;第二,通过光闸形成脉冲束流,以此作为信号源来观测有关部件的动态特性。本文要研究和讨论的就是光闸这两种特异功能。
I. INTRODUCTION It is well known that the shutter in the electron beam lithography machine is used to control whether the graphics need to be exposed or not. However, it has been clearly understood and understood from our research that, in addition to the above basic functions, the shutter has at least the following two functions for us to use: First, the use of a shutter as a chopper can constitute a simple and practical And good performance of the microbeam flowmeter; Second, through the shutter to form a pulsed beam, as a signal source to observe the dynamic characteristics of the relevant components. This article to study and discuss is the gate these two specific functions.
其他文献
电子束曝光机圆片固定方式的改进 专利号:美国专利4425508,发明人:George C.Lewis,Robert A.Vanslette,申请日期:1982年5月7日。 内容提要:曝光用的圆片装在由空气轴承支持
机械工业部为了满足国内对扫描电镜的需求,减少进口电镜的数量。原一机部于一九八O年下达任务,由北京仪器厂研制扫描电镜。经过五年的努力,于今年研制成功。为此,机械工业部
实验研究了高密度(CH)_X膜的离子注入n型掺杂。在用相当低的能量(12KeV)的钠离子进行了注入的(CH)_x膜上观察到明显的掺杂效应。(CH)_x膜的注入区和原始区(p型)之间显示了P-n
SEMI(Semiconductor Equipment and Materials Institute)——半导体设备及材料协会,1970年成立于美国加里福尼亚州,该协会的宗旨是开展以半导体设备及材料为主要内容的展览
在新世纪以来中国经济发展最为艰难的时刻,一场历史性的变革拉开了大幕,它将以怎样的方式引领13亿人共渡难关,并完成最为深刻的社会转型?“你们是13亿人口,怎么经济的对外
介绍尿基熔体法油冷造粒制NPK高浓度复合肥工业化装置的开发过程、关键技术、主要设备及试生产情况;并介绍项目的总投资和经济分析结果。
The development process, key tec
在中国经济这艘巨轮驶入新的年度之际,中央经济工作会议对200g年经济工作进行了全面部署。 “保增长”是头等大事在国际金融危机对实体经济带来的影响进一步加深的背景下,经
Aromatic aldehydes undergo cross-aldol condensation with ketones in the presence of carbon-based solid acid under solvent-free conditions to afford the correspo
本文介绍一种运用“管壁电极技术”的、新型“无电极(Electrodeless)”式的静电聚焦象管。研究了使用电位本征函数展开,来计算旋转对称静电场的Fourier-Bessel级数法;并在“S
前言 荧光灯有光效高、寿命长、光色柔和、舒适、散热小等优越性。选用不同的荧光粉可得到所需要的光色。已成为家庭、和厂房内照明的优良光源。荧光灯已有近50年的历史,可