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单极CMOS,速度更快、更易制造
单极CMOS,速度更快、更易制造
来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xuehaocad
【摘 要】
:
耶鲁大学的T.P.Ma教授提出了一种全n沟道的CMOS,它比现在的以电子和空穴为载流子的CMOS速度更快、更容易制造。T.P.Ma称它为单极CMOS,并在2008年10月由Semathech组织的先进栅叠层技
【作 者】
:
David Lammers
【机 构】
:
NewsEditor
【出 处】
:
集成电路应用
【发表日期】
:
2009年1期
【关键词】
:
CMOS
单极
速度
制造
耶鲁大学
国际会议
N沟道
载流子
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耶鲁大学的T.P.Ma教授提出了一种全n沟道的CMOS,它比现在的以电子和空穴为载流子的CMOS速度更快、更容易制造。T.P.Ma称它为单极CMOS,并在2008年10月由Semathech组织的先进栅叠层技术国际会议上做了首次介绍。
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