【摘 要】
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利用电弧离子镀，在不锈钢和SiCp增强2024铝基复合材料基底上沉积TiAIN薄膜。结果表明：TiAIN膜层直接沉积在不锈钢基底上，膜层呈[111]择优取向；然而，TiAIN膜层沉积在不锈钢基底的Ti
【机 构】
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沈阳工业大学材料科学与工程学院,中国科学院金属研究所
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利用电弧离子镀，在不锈钢和SiCp增强2024铝基复合材料基底上沉积TiAIN薄膜。结果表明：TiAIN膜层直接沉积在不锈钢基底上，膜层呈[111]择优取向；然而，TiAIN膜层沉积在不锈钢基底的TiAl过渡层上，膜层呈[220]方向择优取向；并且随着过渡层从零开始增厚，TiAIN膜层的织构系数T(111)逐渐减小，而T(200)逐渐增大，但膜层一直以[220]方向择优取向，内应力的存在可能是膜层产生[220]方向择优取向的原因。在复合材料基底TiAl过渡层上沉积，随着负脉冲偏压的增加，TiAIN膜层的择
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