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采用射频磁控反应溅射技术, 在不同的Ar/O2流量比条件下制备了系列Er2O3薄膜样品。采用椭偏光谱和紫外-可见光透射光谱测试分析技术, 研究了Er2O3薄膜的折射率、消光系数、透射率和光学带隙等光学常数与制备工艺的关系。研究了不同条件下制备的Er2O3薄膜的介电常数和Ⅰ～Ⅴ特性。结果表明, Er2O3薄膜的折射率、禁带宽度和介电常数随Ar/O2流量比的增加而增加, 而消光系数基本不随Ar∶O2流量比的变化而变化。在Ar∶O2流量比为7∶1制备的Er2O3薄膜具有较好的物理性能, 在可见红外波段其折射率约1.81, 消光系数为3.7×10-6,禁带宽度5.73 eV,介电常数为10.5。