【摘 要】
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高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电凭借着高离化率优势,已经成为物理气相沉积(PVD)领域的核心技术。鉴于HiPIMS放电具有复杂的物理场配置和兆瓦级的峰值功率,其产生的不均匀等
【基金项目】
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国家科技重大专项(2017-VII-0012-0108).
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高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电凭借着高离化率优势,已经成为物理气相沉积(PVD)领域的核心技术。鉴于HiPIMS放电具有复杂的物理场配置和兆瓦级的峰值功率,其产生的不均匀等离子体严重影响着薄膜的性能。从HiPIMS放电等离子体的时间和空间特性角度出发,结合放电靶电流、等离子体阻抗、离子饱和电流的特性,以及各种粒子在不同时刻和空间位点对应的相互作用和运动轨迹,综述了近年来国际上关于HiPIMS脉冲放电过程中等离子体参数的时空演变特性以及脉冲等离子体动力学行为,主要包含了等离子体物理量的时间演变规律,
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