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介绍了纯铬靶材的主要制备工艺流程及研究现状,介绍了采用热等静压方法制备的纯铬靶材圆柱体致密度高达99.86％,晶粒细小、溅射性能优异;阐述了高纯溅射铬靶材的特性,分析了高纯铬靶材存在的问题;探讨和展望了高纯铬溅射靶材的发展趋势.
磁控溅射用高纯铬靶材的研究现状及发展趋势
【摘 要】
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介绍了纯铬靶材的主要制备工艺流程及研究现状,介绍了采用热等静压方法制备的纯铬靶材圆柱体致密度高达99.86％,晶粒细小、溅射性能优异;阐述了高纯溅射铬靶材的特性,分析了高
【机 构】
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西安嘉业航空科技有限公司,陕西 西安 710089
【出 处】
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铸造技术
【发表日期】
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2020年12期
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