【摘 要】
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脉冲电镀有3个关键可调沉积参数,频率f、占空比R和平均电流密度Jm。脉冲电镀即是通过调节波形与这些沉积参数来改变沉积过程,从而提高镀层质量。为寻找电镀锕系元素的最佳脉
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脉冲电镀有3个关键可调沉积参数,频率f、占空比R和平均电流密度Jm。脉冲电镀即是通过调节波形与这些沉积参数来改变沉积过程,从而提高镀层质量。为寻找电镀锕系元素的最佳脉冲沉积条件,需研究脉冲电镀中以上3个关键可调参数之对脉冲电沉积产生的影响。
Pulse plating has three key adjustable deposition parameters, frequency f, duty cycle R and average current density Jm. Pulse plating is through the adjustment of the waveform and the deposition parameters to change the deposition process, thereby enhancing the quality of the coating. In order to find out the optimal pulse deposition conditions for actinides plating, the influence of the above three key adjustable parameters on pulse electrodeposition needs to be investigated.
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