电磁场增强多弧离子镀AlTiN涂层抗高温氧化研究

• 作 者: 许建平 王佳杰 齐海群 王国星 尹志娟 巩春志 陈晶
• 机 构: 黑龙江工程学院材料与化学工程学院,哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室,黑龙江省科学技术馆
• 出 处: 哈尔滨工程大学学报
• 发表日期: 2021年5期
• 关键词: 多弧离子镀 AlTiN 高温氧化 涂层 偏压 沉积速率
• 基金项目: 国家自然科学基金项目(11675047,1187050765),黑龙江省自然科学基金项目(E201458),黑龙江工程学院基本科研业务费(创新团队类)项目(2020CX06),黑龙江工程学院青年科学基金项目(2018QJ01,2012QJ15).

针对不同偏压下电磁场增强多弧离子镀技术制备AlTiN涂层组织结构及涂层抗高温氧化性能的复杂问题,本文利用电磁场增强多弧离子镀技术制备AlTiN涂层,采用SEM和XRD等分析测试方法研究脉冲负偏压对AlTiN涂层微观结构、沉积速率等性能影响规律,利用氧化增重方法研究AlTiN抗高温氧化性能。研究结果表明:AlTiN涂层结构致密,AlTiN涂层择优取向生长;涂层沉积速率随着偏压增加而呈现出先增加后降低趋势,最高2.8μm/h;AlTiN涂层晶粒尺寸随着氧化温度的升高而逐渐增加;AlTiN涂层抗氧化温度超过80