论文部分内容阅读
在液晶显示器的生产过程中要多次涉及到清洗工艺，如所使用的玻璃基板在受入前必须清洗干净，在溅镀ITO导电膜之前还需要清洗干净，由于制备工艺要求达到1μm，所以除了玻璃基板、镀膜玻璃必须清洗之外，在涂敷光刻胶等之前都要对玻璃基板进行清洗，将1μm以上的颗粒以及所有的无机、有机污染物清洗干净，保证工艺达到所需要的精度要求。本文就目前的主流清洗方法进行系统阐述，从原理上为清洗工艺提供理论知识。