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期刊论文
铜连接线工艺前景广阔
铜连接线工艺前景广阔
来源 :电子产品世界 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Dec-87
【摘 要】
:
多年来,科学家们一直为突破IC内部铝连接线的性能局限而奋斗。这些局限包括:相当高的电阻、对电迁移的脆弱性以及应力在合金内引起的孔隙。IC线宽的持续缩小使这些局限更加难以突破
【作 者】
:
砥中
【出 处】
:
电子产品世界
【发表日期】
:
1998年9期
【关键词】
:
铜连接线工艺
IC
制造工艺
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多年来,科学家们一直为突破IC内部铝连接线的性能局限而奋斗。这些局限包括:相当高的电阻、对电迁移的脆弱性以及应力在合金内引起的孔隙。IC线宽的持续缩小使这些局限更加难以突破。研究人员早已知道铜连接线可以降低电阻,但制造铜连接线的困难和害怕损坏生产晶体...
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