Characterization of ZrO2 Films Deposited by Reactive Unbalanced Magnetron Sputtering

来源 :材料热处理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：longwayli

【摘要】

：

ZrO2 thin films were deposited by r.f. reactive unbalanced magnetron sputtering. The influence of electromagnetic coil current on microstructure and optical pro

【作者】

：

ZHAOSha XUKe-wei WANGYuan

【机构】

：

State-KeyLaboratoryforMechanicalBehaviorofMaterials

【出处】

：

材料热处理学报

【发表日期】

：

2004年05B期

【关键词】

：

ZRO2薄膜不平衡磁控管溅射显微结构光学性质 zirconium oxide unbalanced magnetron sputtering micr

【基金项目】

：

面向21世纪教育振兴行动计划(985计划)

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ZrO2 thin films were deposited by r.f. reactive unbalanced magnetron sputtering. The influence of electromagnetic coil current on microstructure and optical properties of the films was investigated. At low coil current of 0.2A, small grains are produced.

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