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日前，国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜（直写式）光刻机在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华带队的专家鉴定组在鉴定后认为，该成果在国际同类产品中处于先进水平，分辨率已经达到亚微米，性能稳定可靠，填补了国内光刻机在该领域的空白。据研发公司负责人介绍，这台光刻机分辨率达到0．65微米以下，同时，自主专利技术的运用极大提高了产能，从这两项关键性能指标来看，已经处于世界同类产品领先水平。