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这种真空腔体是为减少了半导体应用中真空腔的个数而研发的，而晶圆容量几乎不变。这种结构采用了配备有压差真空凹槽的预置空气轴承的移动真空。产品的特点有改善的机台定位的静态、动态响应抽气时间、稳定时间缩短等。
真空腔体
【摘 要】
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这种真空腔体是为减少了半导体应用中真空腔的个数而研发的，而晶圆容量几乎不变。这种结构采用了配备有压差真空凹槽的预置空气轴承的移动真空。产品的特点有改善的机台定位的
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2006年5期
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