【摘 要】
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曝光系统是光刻机的重要组成部分,其性能的好坏也是光刻机性能的主要指标.本文阐述了光源的选择和镇流元件的计算,推导了解决曝光均匀性的一般公式,并指出光学系统象差可以作
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曝光系统是光刻机的重要组成部分,其性能的好坏也是光刻机性能的主要指标.本文阐述了光源的选择和镇流元件的计算,推导了解决曝光均匀性的一般公式,并指出光学系统象差可以作为改善曝光均匀性的一个参数来考虑.本系统已成功地用在具有自动对準系统的光刻机上.
The exposure system is an important part of the lithography machine and its performance is also the main index of the performance of the lithography machine.In this paper, the choice of the light source and the calculation of ballast components are expounded, and the general formula for solving the exposure uniformity is deduced Optical system aberrations can be considered as a parameter to improve the uniformity of the exposure. This system has been successfully used on a lithography machine with an automatic alignment system.
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