水平磁场对熔体热对流抑制作用的理论分析

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在直拉硅单晶生长过程中,熔体热对流对单晶质量有很大影响。一方面,热对流引起的温度波动可引起生长速率的变化,因晶体回熔而引入微缺陷,降低单晶的均匀性;另一方面,热对流将直接影响单晶中的间隙氧含量,并进一步影响到随后的氧沉淀形成。因此,在单晶生长过程中如何控制或抑制熔体的热对流越来越受到重视。 In Czochralski silicon growth, the melt convection has a great influence on the single crystal quality. On the one hand, temperature fluctuations caused by thermal convection can cause changes in the growth rate, micro-defects are introduced by the meltback of the crystal and the homogeneity of the single crystal is reduced; on the other hand, the convection heat directly affects interstitial oxygen content in the single crystal Further affecting the subsequent formation of oxygen precipitates. Therefore, how to control or restrain the heat convection of the melt during the growth of the single crystal is paid more and more attention.
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