【摘 要】
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激励光电流(OBIC)成像法是广泛用于缺陷分析的方法,这是利用当激光斑点到达IC表面时产生的电子—空穴对的电流来进行的。然而已往激光对IC表面的照射由于最近的IC表面的多层
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激励光电流(OBIC)成像法是广泛用于缺陷分析的方法,这是利用当激光斑点到达IC表面时产生的电子—空穴对的电流来进行的。然而已往激光对IC表面的照射由于最近的IC表面的多层布线结构及插件而变得困难。另一方如果利用能量低于IC板禁带宽度的红外光,那么研磨IC板的后部,可以由此通过基板看到表面。然而在长波长的红外光的缺点是OBIC像的强度及分辨率差。
Incentive photocurrent (OBIC) imaging is a method widely used for defect analysis by taking advantage of the electron-hole pair current generated when the laser spot reaches the IC surface. However, the laser irradiation on the IC surface has been difficult due to the multi-layer wiring structure and the plug-in of the recent IC surface. On the other hand, if infrared light with energy less than the forbidden band width of the IC board is used, the rear part of the IC board is ground, whereby the surface can be seen through the board. However, the disadvantage of long wavelength infrared light is that the OBIC image has poor intensity and resolution.
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