【摘 要】
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研究了能量为E=160keV质子和电子单独及综合辐照作用对两种空间反射镜光学表面的影响.观察到在辐照剂量达到Φ=10×105/cm2后反射镜表面形成了明显的结构缺陷,并导致某些谱段
【机 构】
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哈尔滨工业大学空间材料与环境工程实验室,北京空间机电研究所,乌克兰哈尔可夫国立大
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研究了能量为E=160keV质子和电子单独及综合辐照作用对两种空间反射镜光学表面的影响.观察到在辐照剂量达到Φ=10×105/cm2后反射镜表面形成了明显的结构缺陷,并导致某些谱段反射率的降低和成像质量的下降.辐照诱发缺陷的类型及分布特征除与粒子种类和反射镜结构有关外,还依赖于试样的接地方式.质子幅照主要引起反射镜表面膜层的起泡现象;电子辐照则使SiO2保护膜着色;综合辐照的影响复杂,尤其是在接近于空间使用条件的第二种接地方式下,起泡现象和静电效应成为镜面损伤的主要机制.
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