【摘 要】
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光学邻近校正 (OPC)系统要求一种精确、快速的方法来预测掩模图形转移到硅圆片的成像结果 .基于 Gabor的“降解为主波”方法 ,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加
【机 构】
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浙江大学超大规模集成电路设计研究所,浙江大学超大规模集成电路设计研究所,浙江大学超大规模集成电路设计研究所,浙江大学超大规模集成电路设计研究所,浙江大学超大规模集成电路设计研究所 杭州310027,杭
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光学邻近校正 (OPC)系统要求一种精确、快速的方法来预测掩模图形转移到硅圆片的成像结果 .基于 Gabor的“降解为主波”方法 ,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加来近似 ,并用高斯过滤器来模拟光刻胶横向扩散和一些掩模工艺效应 ,由此提出了一种基于卷积核的精确、快速地用于光刻模拟的稀疏空间点光强计算方法 .这种模型的简单性从本质上给计算和分析带来了好处 .仿真结果说明这种方法是有效的
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