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期刊论文
非光敏聚酰亚胺钝化工艺研究
非光敏聚酰亚胺钝化工艺研究
来源 :微电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:woheni123abc
【摘 要】
:
本文介绍了非光敏聚酰亚胺用于双极型高压晶体管芯片制造阶段的表面钝化的工艺.该工艺的应用使晶体管生产成本有了大幅度的下降.
【作 者】
:
朱国平
蒋正勇
曹靖
计建新
沈保根
【机 构】
:
无锡华晶微电子股份有限公司
【出 处】
:
微电子技术
【发表日期】
:
2001年5期
【关键词】
:
非光敏聚酰亚胺
表面钝化腐蚀
双极晶体管
Nonphotosensitive polyimidePhotosensitive polyimideSurface
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本文介绍了非光敏聚酰亚胺用于双极型高压晶体管芯片制造阶段的表面钝化的工艺.该工艺的应用使晶体管生产成本有了大幅度的下降.
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