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本文运用光波导理论中的有效折射率法．对二氧化硅埋层式光波导的结构参数进行了计算和设计。根据常规工艺中出现的一些问题，在工艺设计中选择了反应离子刻蚀法和PECVD工艺．并运用计算机模拟技术。对波导的传播性能进行了分析。
二氧化硅埋层式光波导结构参数及工艺的设计
【摘 要】
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本文运用光波导理论中的有效折射率法．对二氧化硅埋层式光波导的结构参数进行了计算和设计。根据常规工艺中出现的一些问题，在工艺设计中选择了反应离子刻蚀法和PECVD工艺．并运
【机 构】
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承德石油高等专科学校
【出 处】
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承德石油高等专科学校学报
【发表日期】
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1999年2期
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