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双曝光技术能提高图形对比度和分辨率 ,可改善焦深 ,从而提高光刻图形质量。介绍了双曝光技术原理和几种双曝光方法 ,同时 ,提出采用双曝光技术 ,结合相移掩模和光学邻近效应校正来提高光刻分辨率 ,给出了双曝光光刻方法的实例及计算机模拟结果。
提高光刻图形质量的双曝光技术
【摘 要】
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双曝光技术能提高图形对比度和分辨率 ,可改善焦深 ,从而提高光刻图形质量。介绍了双曝光技术原理和几种双曝光方法 ,同时 ,提出采用双曝光技术 ,结合相移掩模和光学邻近效应
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2001年02期
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