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来源 :重庆工学院学报 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
在不同的W靶溅射功率下,用反应磁控溅射法在载玻片上制备了TiO2:W薄膜,并对样品进行了XRD,STS和UV-Vis分析,结果表明试样为非晶态;w靶溅射功率为30w时,带隙为2.75eV;W靶溅射功率为100W
【作 者】
:
黄佳木
赵国栋
【机 构】
:
重庆大学材料科学与工程学院
【出 处】
:
重庆工学院学报
【发表日期】
:
2006年2期
【关键词】
:
非晶态
磁控溅射
TiO2
W薄膜
带隙能
吸收光谱
Amorphous
magnetron sputtering
TiO2 : W thin films
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