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以桶式Ⅱ型无土栽培装置为对照，桶式无土栽培新装置为处理，研究了新装置根区温湿度的变化以及根系生长状况。结果表明，在苗期和果实成熟期，两栽培装置中基质和气室温度的日变化随着温室气温的变化而变化，变化趋势总体上基本一致，新装置中基质和气室的温度变化的幅度均低于对照。湿度的日变化趋势正好与温度的日变化趋势相反，先是缓慢下降而后又逐渐上升，变化的幅度整体上新装置低于对照。说明在新装置栽培下，基质和气室温湿度受外界光照剧烈变化影响的幅度小于对照，能够更好避免由于高温高湿造成的根系枯死。两种栽培装置的根系生长在苗期没