【摘 要】
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本文研究了1Cr18Ni9Ti在H_3PO_4—H_2SO_4—CrO_3体系中的电化学抛光。探讨抛光液组分的作用、筛选抛光工艺条件、讨论抛光机理,并对比测定了抛光膜的光洁度和耐蚀性。试验表
【机 构】
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浙江工学院机械工程系,浙江工学院机械工程系,浙江工学院机械工程系,浙江工学院机械工程系
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本文研究了1Cr18Ni9Ti在H_3PO_4—H_2SO_4—CrO_3体系中的电化学抛光。探讨抛光液组分的作用、筛选抛光工艺条件、讨论抛光机理,并对比测定了抛光膜的光洁度和耐蚀性。试验表明,采用本文推荐的抛光工艺可得到光洁度高、平整性好、又具有较高耐蚀性的光泽表面。
In this paper, the electrochemical polishing of 1Cr18Ni9Ti in H_3PO_4-H_2SO_4-CrO_3 system was studied. Discussed the role of the polishing liquid components, screening polishing process conditions, discussed the polishing mechanism, and compared the polished film surface roughness and corrosion resistance. The experiment shows that the glossy surface recommended by this paper can be polished with high finish, good flatness and high corrosion resistance.
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