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采用常压化学气相沉积法（APCVD）在退役25Cr35Ni乙烯裂解炉管内表面制备了SiO2／S涂层，分别研究了表面涂层与裂解原料中添加结焦抑制剂的抗结焦性能；并对表面涂层与结焦抑制剂的联合结焦抑制性能进行研究。利用扫描电子显微镜（SEM）、能量色散谱仪（EDS）和Raman光谱对SiO2／S涂层形貌、成分和结构进行分析，对焦层形貌进行表征。结果表明：SiO2／S涂层粒子结合紧密，粒径为6～10um，涂层厚度约为7gm；涂层由Si-O-Si三节环结构和非晶态的Si—O—S结构构成；炉管内表面经过涂层处理后，