【摘 要】
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采用程序升温表面反应（TPSR）和原位漫反射红外光谱（DRIFTS）等手段研究了常温下NO和O2在高硅Na-ZSM-5分子筛上吸附-氧化反应机理.结果表明,Na-ZSM-5分子筛上NO的催化氧化过程中伴
【机 构】
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浙江大学化学工程与生物工程系,浙江工业大学化学工程与材料学院
【基金项目】
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浙江省科技厅资助项目（2007C23034）
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采用程序升温表面反应（TPSR）和原位漫反射红外光谱（DRIFTS）等手段研究了常温下NO和O2在高硅Na-ZSM-5分子筛上吸附-氧化反应机理.结果表明,Na-ZSM-5分子筛上NO的催化氧化过程中伴随着显著的NO2物理吸附,表现为NO氧化和NO2吸附间的动态平衡.Na-ZSM-5分子筛表面NOx吸附物种的TPSR和原位DRIFTS表征表明,化学吸附的NO和气相中的O2在Na-ZSM-5表面反应生成吸附态的NO3,并继续与NO作用生成弱吸附的NO2和N2O4,它们吸附饱和后释放出来;其中,强吸附的NO3
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