【摘 要】
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公开号 ＣＮ１２０４２７２Ａ 申请人 恩索恩ＯＭＩ公司 地址 美国康涅狄格州 本文涉及一种制造集成电路晶片的方法，其中晶片中具有通道或其它通路，该通路具有屏障层／粘合层或其它金属层，该金属
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公开号 ＣＮ１２０４２７２Ａ 申请人 恩索恩ＯＭＩ公司 地址 美国康涅狄格州 本文涉及一种制造集成电路晶片的方法，其中晶片中具有通道或其它通路，该通路具有屏障层／粘合层或其它金属层，该金属层被金属化，以形成含有活化金属层的电路，然后用优选含有碱性的
Publication No. CN1204272A Applicant Enson OMI Company Address Connecticut, USA. This document relates to a method of making an integrated circuit die having channels or other vias in the wafer having a barrier layer / adhesive layer or other metal layer, the metal The layer is metallized to form a circuit containing an activated metal layer, followed by a layer that preferably contains a basic
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