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反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜。分析了高阈值激光反射膜膜层材料的选择及膜系设计，比较了目前制备高阈值激光反射膜的几种常用方法。重点论述了反应磁控溅射制备高阈值激光反射膜需要解决的两个问题：工作点的选择及控制方法；反应磁控溅射中的打火、靶中毒及阳极消失。并且提出了相应的解决方案。阐述了影响激光反射膜损伤阈值的因素以及反应磁控溅射制备高阈值激光反射膜的优势。