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采用射频反应溅射制备了纳米晶WO3薄膜。基于Berg理论建立了WO3射频反应溅射模型，并分析工艺参数对滞回曲线的影响，基于研究了抽速、基片温度、馈入功率、靶片间距和溅射靶等离子体溅射面积的影响。提出了一种新的消除滞回曲线的制备纳米晶WO3薄膜的方法和优化的工艺参数。论文制备了性能良好的电致变色纳米晶WO3薄膜。分别用环境扫描电镜（ESEM）、X射线光电子能谱（XPS），X射线衍射（XRD）和分光光度计测试了该薄膜，该薄膜在可见光波段，不变色时的透光率大于95％，变色后为65％。纳米晶WO3薄膜的晶粒尺寸在