硅－锗合金的高分辨率反应离子刻蚀

来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：liuhaiyi123

【摘要】

：

硅－锗合金的高分辨率反应离子刻蚀＝ＨｉｇｈｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｒｅａｃｔｉｖｅｉｏｎｅｔｃｈｉｎｇｏｆＳｉＧｅａｌｌｏｙｓ［刊，英］／Ｃｏｕｉｌｌａｒｄ，Ｊ．Ｇ…∥Ｊ．Ｖａｃ，Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．Ｂ．－１９９３－１１（３）．７１７～７１９在氟基和... High-resolution Reactive Ion Etching of Silicon-Germanium Alloys = HighresolutionreactiveionetchingofSiGeallo

【出处】

：

微电子学

【发表日期】

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1994年02期

【关键词】

：

反应离子刻蚀高分辨率刻蚀工艺统计模型氯基纯硅器件研究气体组分

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