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适用于0.5μm器件的TiN阻挡层和Al平坦化的PVD集成工艺
适用于0.5μm器件的TiN阻挡层和Al平坦化的PVD集成工艺
来源 :微电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:haibitian_lan
【摘 要】
:
本文介绍了为优化0.5μm器件而对用于常规铝的TiN阻挡层形成和热平坦化铝所做的研究结果。采用金属退火集群组合设备原位形成TiN阻挡层。讨论了铝平坦化工艺。介绍了漏电流和
【作 者】
:
巨龙
【出 处】
:
微电子技术
【发表日期】
:
1994年5期
【关键词】
:
氮化钛阻挡层
铝
平坦化
PVD
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本文介绍了为优化0.5μm器件而对用于常规铝的TiN阻挡层形成和热平坦化铝所做的研究结果。采用金属退火集群组合设备原位形成TiN阻挡层。讨论了铝平坦化工艺。介绍了漏电流和电迁移研究中取得的电特性结果。
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