利用新型等离子CVD装置涂复陶瓷薄膜

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<正> 在金属材料上涂复硬质陶瓷的方法,一般有CVD(化学气相沉积)法和PVD(物理气相沉积)法。这两种方法各有利弊,应根据具体工件灵活加以应用。CVD法的薄膜附着性高,但处理温度高达1000℃左右,母材容易发生变形和尺寸变化,需要二次热处理。PVD法的处理温度比CVD法低,变形和尺寸变化可得到控制。但薄膜的附着性差,且绕镀性也欠佳,因此不能用于形状复杂的工件。
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