3%NaCl溶液中碳—铜短路体系接触腐蚀机理

• 作 者: 郭稚弧
• 机 构: 华中理工大学化学系
• 出 处: 华中理工大学学报
• 发表日期: 1993年6期
• 关键词: 碳-铜电偶 接触腐蚀 旋转圆盘电极 galvanic carbon-copper couple contact corrosion rotating dis

应用旋转圆盘电极（ＲＤＥ）法、浸渍腐蚀试验法及腐蚀表面的Ｘ射线衍射分析法研究了３％ＮａＣｌ溶液中碳－铜短路接触腐蚀的机理。结果表明，该腐蚀属Ｏ２去极化腐蚀，其阴极去极化反应一般为扩散控制。在与腐蚀电流相对应的电位区内，在碳电极上Ｏ２的阴极还原电流密度约为铜电极上的还原电流密度的二倍，并且，由于碳膜的存在，在铜表面上形成了铜氧化物－铜电偶，因而促进了铜的腐蚀。