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硅碳氧(SiCO)薄膜是一种三元玻璃状化合物材料,具有热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高等特性,是一种具有潜在应用价值的新颖光学薄膜材料。本文采用射频磁控溅射技术在Si(100)及K9玻璃上制备了硅碳氧薄膜。利用椭圆偏振仪、紫外/可见/近红外光度计及X射线光电子能谱测试表征了薄膜的光学性能及薄膜组分。研究发现,基片温度、工作压强及溅射功率等工艺参数对硅碳氧薄膜的沉积速率和折射率都有着一定的影响。并且所制备的硅碳氧薄膜均具有高折射率(大于1.80),相比之下,K9玻璃基硅碳氧薄膜的折射率有着更大的变化范围(1.84～2.20)。通过对K9玻璃基硅碳氧薄膜的光学透射性能研究表明,采用文中所描述的方法可以制备出具有较好光学透射性能的硅碳氧薄膜。