牙釉质EPR谱去卷积程序在剂量重建中的应用

• 作 者: 吴伟章 于奡 戴光复 王轶 张良安
• 机 构: 300192,天津,中国医学科学院,中国协和医科大学放射医学研究所,南开大学中心实验室,300192,天津,中国医学科学院,中国协和医科大学放射医学研究所,天津市职工医院,300192,天津,中国医学
• 出 处: 中华放射医学与防护杂志
• 发表日期: 2005年25期
• 关键词: EPR 去卷积 牙釉质 拟合 剂量响应曲线 剂量 拟合精度 电子顺磁共振 测量精度 线性回归

目的 探讨牙釉质电子顺磁共振(EPR)谱去卷积程序在小剂量区域剂量重建的应用.方法用编写的EPR谱拟合程序拟合一系列用不同小剂量照射过的牙釉质样品EPR谱,得到相应的剂量信号(RIS)强度,线性回归得到剂量响应曲线,并分析拟合精度.结果剂量响应曲线IRis=14.04+0.768D(mGy),r=0.997,SD=19.8 mGy.结论这项技术将牙釉质EPR剂量重建的下限降低到约200 mGy。